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光電展

2021年SPIE光刻技術博覽會SPIE Advanced Lithography

文字:[大][中][小] 手機頁面二維碼 2018/11/6     瀏覽次數:    

    

點擊下載:   2021年展商名單    2021年展位圖

展會時間:20212月23-24                    舉辦周期:每年一屆

展會地點:美國加利福尼亞圣何塞會展中心               主辦方:美國國際光學工程協會SPIE

 

展會簡介

2021美國SPIE光刻技術博覽會是推動未來光刻研究及應用的重要展會。同時也為參展商與其他領域的合作伙伴共同尋求新的合作機會。SPIE先進光刻技術會議(SPIE Advanced Lithography2021)是全球領先的光刻技術盛會,大會涵蓋諸如光學光刻技術、EUV光刻技術、新型圖案化技術、測量、檢測和光刻工藝控制、材料及工藝改進、設計工藝協同優化以及先進刻蝕等領域的先進光刻與圖形化技術。對于材料供應商、設備制造商及先進芯片生產商來說,都是不可錯過的一場技術大餐2020年展會共有54家參展商,展期共有7場會議,15場課程培訓,500余份技術論文,吸引2100名與會者。

 

 

為什么要參展?

1)與行業專家面對面交流并觀摩該行業最先進的科技裝備。

2)對行業領域最新研發的產品和研究成果,企業可現場見到相關的專家人員(科學家,工程師,開發人員)并同時能夠對其進行比較和分析。

3)到圣何塞與當地供應商和項目合作伙伴建立合作聯系。

 

 

參展范圍:

光刻:浸入式,雙重圖案,電子束,EUV,光學/激光,RET

計量,檢查,OPC和過程控制

設計和制造軟件

材料和化學品

成像設備

激光器

抵制材料和加工

納米壓印

IC和芯片制造

納米級成像

用于納米圖案的蝕刻技術

 

 

2020年會議主題:

? Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography

? Novel Patterning Technologies for Semiconductors, MEMS/NEMS and MOEMS

? Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography

? Advances in Patterning Materials and Processes

? Optical Microlithography

? Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability

? Advanced Etch Technology for Nanopatterning

 

現場圖片:

                 

                  

 


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